Intel พร้อมเปิดตัวระบบชิพแบบ 32 nm. โดยคาดการกันว่าจะเปิดตัวในราวไตรมาสที่ 4 ของปี 2009 พร้อมการเปิดตัวเจเนอเรชั่นที่ 2 ของระบบ High-K+ Metal Gate Technology ซึ่งเป็นการจัดวางเลเยอร์ใหม่ในชิพ เทคโนโลยีเหล่านี้จะรวมตัวกันเพื่อทำให้โพรเซสเซอร์ของ Intel ใช้พลังงาน อย่างคุ้มค่า และเหมาะสม โดยให้ประสิทธิภาพสูงสุด
ซีพียูของ Intel ตอนนี้ผลิตจากกระบวนการผลิตแบบ 45 nm. และในตอนนี้ Intel ได้พร้อมแล้วสำหรับการผลิตแบบ 32 nm. ซึ่งจะเริ่มการผลิตจริงได้ในช่วงไตรมาสที่ 4 ของปี 2009 ที่จะถึงนี้
Intel จะให้รายละเอียดด้านเทคนิคของระบบ 32 nm. และรายละเอียดต่างๆในงาน International Electron Device Meeting (IEDM) ในซานฟรานซิสโกอาทิตย์หน้า ด้วยการเปิดตัวระบบ 32 nm. นี้ จะมีการเปิดตัวสถาปัตยกรรมแบบใหม่อีกด้วย
http://www.monavista.com/news/167/AR...008-12-14.html
http://www.i3.in.th/news/view/130
Comment