สื่อต่างประเทศรายงานว่า อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของจีนบรรลุความก้าวหน้าทางเทคโนโลยีครั้งสำคัญ โดยระบุว่าจีนได้พัฒนาและทำให้ เครื่อง EUV Lithography (การพิมพ์ลายด้วยแสงอัลตราไวโอเลตขั้นสูง) ที่ผลิตในประเทศเครื่องแรกในรูปแบบต้นแบบสามารถเดินเครื่องได้แล้ว อย่างไรก็ตาม เครื่องต้นแบบดังกล่าวยังคงต้องพึ่งพา ชิ้นส่วนรุ่นเก่าของ ASML บางส่วนเพื่อให้สามารถทำงานได้ แม้เช่นนั้น ความคืบหน้าที่เกิดขึ้นอย่างรวดเร็วก็ยังถือว่าน่าตกใจไม่น้อย
ตามรายงานของ Reuters ระบุว่า SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) สามารถพัฒนาเครื่อง EUV ต้นแบบนี้ได้ โดยอาศัยการจ้างอดีตวิศวกรของ ASML และใช้วิธีการ Reverse Engineering ปัจจุบันยังไม่มีข้อมูลชัดเจนว่าจีนใช้เทคโนโลยีใดเป็นหลักในเครื่องต้นแบบดังกล่าว แต่แหล่งข่าวชี้ว่า มีการนำชิ้นส่วนจากเครื่องลิโธกราฟีรุ่นเก่าของ ASML มาใช้งาน ทำให้เครื่องนี้ยังไม่ใช่การพัฒนาแบบ “ผลิตในประเทศ 100%”
รายงานยังระบุว่า การที่จีนสามารถเข้าถึงชิ้นส่วนอะไหล่ของเครื่อง ASML รุ่นเก่าจากตลาดมือสอง เป็นปัจจัยสำคัญที่ทำให้การพัฒนาเครื่อง EUV ต้นแบบเกิดขึ้นได้ ปัจจุบันเครื่องดังกล่าวสามารถเดินระบบและสร้างแสง EUV สำหรับกระบวนการกัดลายบนเวเฟอร์ได้แล้ว แต่ยัง ไม่สามารถนำไปใช้ผลิตชิปจริง (tape-out) ได้ คาดว่าจะต้องรอจนถึงราวปี 2030 จึงจะสามารถทำการผลิตชิปได้ ซึ่งถือว่าเร็วกว่าไทม์ไลน์ที่รัฐบาลสหรัฐฯ เคยประเมินไว้มาก
อย่างไรก็ตาม ผู้เชี่ยวชาญภายนอกยังคงตั้งข้อสงสัยต่ออนาคตของเครื่อง EUV จากจีน โดยเฉพาะในประเด็นด้าน แหล่งกำเนิดแสงและพารามิเตอร์สำคัญอื่น ๆ ซึ่งจำเป็นต้องอาศัยประสบการณ์และการปรับจูนระยะยาว เพื่อยกระดับอัตราผลผลิต (Yield) ให้ถึงระดับที่ใช้งานเชิงพาณิชย์ได้อย่างเหมาะสม
ที่มา: HKEPC
