สื่อต่างประเทศรายงานว่า รัฐสภาเนเธอร์แลนด์ได้ออกมาวิจารณ์ ASML อย่างหนัก โดยตั้งคำถามว่า เครื่องลิโทกราฟีที่ ASML ส่งออกไปยังจีนอาจถูกนำไปใช้ในทางทหาร และอาจกระทบต่อความมั่นคงของชาติหรือไม่
ด้าน Peter Wennink ซีอีโอของ ASML ให้สัมภาษณ์ชี้แจงว่า เครื่องที่ขายให้จีนทั้งหมดเป็น เทคโนโลยี DUV รุ่นเก่า ซึ่ง ล้าหลังกว่า 8 เจเนอเรชัน และมี ช่องว่างทางเทคโนโลยีมากกว่า 10 ปี ไม่สามารถใช้ผลิตชิปขั้นสูงได้แต่อย่างใด

Peter Wennink ให้สัมภาษณ์กับ Bloomberg ว่า อุปกรณ์ที่ ASML ส่งออกไปจีนในปัจจุบัน เมื่อเทียบกับเทคโนโลยี High-NA EUV (Extreme Ultraviolet ความละเอียดสูงพิเศษ) รุ่นล่าสุดแล้ว ถือว่าล้าหลังถึง 8 รุ่นเต็ม
เครื่อง DUV เหล่านี้มีระดับเทคโนโลยีเทียบเท่ากับอุปกรณ์ที่ ASML เคยขายให้ลูกค้าในโลกตะวันตกเมื่อช่วง ปี 2013–2014 ซึ่งหมายถึงช่องว่างทางเทคโนโลยีที่ยาวนานเกิน 10 ปี

ในเชิงเทคนิค เครื่อง DUV ที่ส่งให้จีนมีความละเอียดประมาณ 38 นาโนเมตร เท่านั้น ขณะที่เทคโนโลยี High-NA EUV ในปัจจุบัน สามารถลดความละเอียดจากราว 13.5 นาโนเมตร ลงไปถึง 8 นาโนเมตร และในทางทฤษฎีอาจแตะระดับ 5 นาโนเมตร ได้ ซึ่งทั้งสองระดับนี้ ไม่อาจนำมาเปรียบเทียบกันได้เลย

Peter Wennink ยังยอมรับอย่างตรงไปตรงมาว่า หากประเทศตะวันตก บีบจีนหนักเกินไปด้วยมาตรการจำกัดการส่งออก จนจีนไม่มีทางเลือกและต้องตัดขาดจากเทคโนโลยีตะวันตกโดยสิ้นเชิง สิ่งนี้อาจ ย้อนกลับมากระตุ้นให้จีนเร่งพัฒนาเทคโนโลยีของตนเองอย่างจริงจัง แทน
ตัวอย่างที่ชัดเจนคือ การที่สหรัฐฯ แบนการส่งออกชิป AI ไปยังจีน ซึ่งกลับกลายเป็นแรงผลักดันให้บริษัทจีนอย่าง Huawei และ Cambricon เติบโตขึ้นอย่างรวดเร็วในตลาดชิป AI

ในระยะยาว เขาเตือนว่า แนวทางนี้อาจทำให้ ชาติตะวันตกสูญเสียตลาดขนาดมหาศาลของจีนไปอย่างถาวร

Peter Wennink ทิ้งท้ายว่า เป็นไปไม่ได้ที่จะกดดันจีนได้ตลอดไป คำถามสำคัญคือ โลกตะวันตกต้องการให้จีนล้าหลังแค่ไหน — 5 ปี, 10 ปี หรือ 15 ปี?
ในหลายอุตสาหกรรม จีนได้บรรลุการพัฒนาเทคโนโลยีด้วยตนเองแล้ว และในอนาคต จีนอาจกลายเป็นฝ่ายส่งออกเทคโนโลยีเหล่านี้กลับมายังตะวันตกเสียเอง

ที่มา: HKEPC