TSMC ผลิตเวเฟอร์ 2nm แตะ 20,000 แผ่นต่อเดือนแล้ว ลูกค้าแห่ใช้ N2 มากกว่า N3 ถึง 4 เท่า
TSMC เดินหน้าขยายกำลังการผลิตเทคโนโลยีการผลิตชิป 2 นาโนเมตร (N2) อย่างต่อเนื่อง โดยมีรายงานว่าบริษัทสามารถเพิ่มกำลังการผลิตได้ถึง 20,000 เวเฟอร์ต่อเดือน สำหรับกระบวนการผลิต N2 เพียงอย่างเดียว ถือเป็นอีกก้าวสำคัญของการผลิตระดับ High-Volume Manufacturing (HVM)
ปัจจุบัน TSMC มีโรงงานผลิตชิปในไต้หวันที่เกี่ยวข้องกับเทคโนโลยี 2 นาโนเมตรรวม 5 แห่ง แต่มีเพียง Fab 20 ที่เข้าสู่การผลิตเชิงพาณิชย์เต็มรูปแบบแล้ว และเป็นโรงงานที่สามารถผลิตได้ถึง 20,000 เวเฟอร์ต่อเดือน
TSMC เริ่มเดินสายการผลิตเชิงพาณิชย์ของกระบวนการผลิต N2 ในช่วงไตรมาส 4 ปี 2025 และหลังผ่านไปเพียง 2 ไตรมาส เทคโนโลยีใหม่นี้เริ่มมีบทบาทมากขึ้นในธุรกิจของบริษัท แม้ปัจจุบันจะคิดเป็นเพียง 3% ของรายได้ทั้งหมด ขณะที่
- เทคโนโลยี 3 นาโนเมตร (N3) คิดเป็นประมาณ 30%
- เทคโนโลยี 5 นาโนเมตร (N5) ยังคงเป็นรายได้หลักที่ 33%
ลูกค้าเลือกใช้ N2 มากกว่า N3 ถึง 4 เท่า
ก่อนหน้านี้ TSMC เปิดเผยว่า กระบวนการผลิต N2 มีจำนวน Tape-out หรือการส่งแบบชิปเข้าสู่กระบวนการผลิตมากกว่ากระบวนการผลิต N3 ในช่วงเวลาเดียวกันถึง 4 เท่า
หนึ่งในปัจจัยสำคัญคือ N2 เป็นเทคโนโลยีการผลิตรุ่นแรกของ TSMC ที่เปลี่ยนมาใช้ทรานซิสเตอร์แบบ GAAFET (Gate-All-Around FET) ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและลดการใช้พลังงานได้อย่างชัดเจน
TSMC ระบุว่า N2 สามารถมอบประสิทธิภาพที่ดีขึ้น
- เพิ่มประสิทธิภาพสูงสุด 15% ที่ระดับการใช้พลังงานเท่าเดิม
- หรือ ลดการใช้พลังงานได้สูงสุด 30% ที่ประสิทธิภาพเท่าเดิม
ด้วยเหตุนี้จึงมีลูกค้าจำนวนมากเร่งพัฒนาผลิตภัณฑ์บน N2
AMD และ Apple อยู่ในกลุ่มลูกค้ารายสำคัญ
บริษัทที่ได้รับการยืนยันว่าจะใช้กระบวนการผลิต N2 ได้แก่
- AMD สำหรับซีพียูเซิร์ฟเวอร์ EPYC "Venice"
- Apple สำหรับชิป A20 Pro ที่คาดว่าจะใช้ใน iPhone 18 Pro Series
นอกจากนี้ยังมีลูกค้ารายใหญ่อีกหลายรายที่อยู่ระหว่างการพัฒนาผลิตภัณฑ์บนเทคโนโลยี N2 แม้ว่าจะยังไม่มีการเปิดเผยชื่อทั้งหมด
แม้รายได้จาก N2 จะยังมีสัดส่วนไม่มาก แต่แนวโน้มของอุตสาหกรรมกำลังเคลื่อนเข้าสู่กระบวนการผลิตรุ่นใหม่นี้อย่างต่อเนื่อง
เปรียบเทียบกับ Intel 18A
หากเปรียบเทียบกับคู่แข่งอย่าง Intel กระบวนการผลิต 18A มีระดับกำลังการผลิตใกล้เคียงกัน โดยปัจจุบัน Intel ผลิตชิป 18A จากโรงงานหลัก 2 แห่ง ได้แก่
- Fab 52 ในเมืองฟีนิกซ์ รัฐแอริโซนา
- โรงงานในเมืองฮิลส์โบโร รัฐโอเรกอน
ทั้งสองแห่งมีกำลังการผลิตรวมประมาณ 30,000 เวเฟอร์ต่อเดือน
ใช้เครื่อง EUV รุ่นล่าสุดของ ASML
กระบวนการผลิต N2 ของ TSMC ใช้เครื่องลิโทกราฟี ASML Low-NA EUV เช่น TWINSCAN NXE:3800E ซึ่งเป็นอุปกรณ์หลักสำหรับการผลิตชิปขนาด 2 นาโนเมตร
อย่างไรก็ตาม เครื่องจักรรุ่นดังกล่าวมีแนวโน้มปรับราคาสูงขึ้นในอีกไม่กี่ปีข้างหน้า โดย TSMC เคยแสดงความกังวลเกี่ยวกับต้นทุนการลงทุนที่เพิ่มขึ้น แม้ว่าบริษัทจะยังคงเดินหน้าจัดซื้อเครื่องจักรตามแผน เพื่อรองรับความต้องการของลูกค้าที่เพิ่มขึ้นอย่างต่อเนื่อง
การที่ TSMC สามารถเร่งกำลังการผลิต N2 ได้ถึง 20,000 เวเฟอร์ต่อเดือน พร้อมมีจำนวนลูกค้า Tape-out มากกว่ารุ่น N3 ถึง 4 เท่า สะท้อนให้เห็นว่าอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์กำลังเข้าสู่ยุคของเทคโนโลยี 2 นาโนเมตร อย่างเต็มตัว และจะกลายเป็นหัวใจสำคัญของชิปประมวลผล AI, สมาร์ทโฟน และซีพียูประสิทธิภาพสูงในช่วงหลายปีข้างหน้า
ที่มา: TechPowerUp



